Mi掩模对准器。SMIC最好的光刻机是Mi光刻机，它是目前SMIC最先进的光刻机，可以生产高质量的产品，华为被美国芯片限制后，光罩对准器国产化受限，苏大威格光刻机介绍了苏大威格的光刻机，这是一种通过激光直接在光刻胶上雕刻图案的技术，在不使用掩模的情况下，它可以灵活地使用激光波长并选择合适的波长来曝光光刻胶。
说五纳米芯片不需要掩模对准器并不完全准确。MaskAligner又称为:掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。米饭片。产业链光刻机产业链主要包括三个环节:上游核心部件及配套设备、中游光刻机中的生产和下游光刻机中的应用。尽管掩模对准器在微电子器件的制造中起着至关重要的作用，但在五纳米芯片的制造过程中仍然需要掩模对准器或其他类似设备。
掩模对准器的精度非常高。中国光刻机现已达到M工艺芯片。大威格将继续在国家票据证件防伪材料、电子纸和反射式液晶前光材料、AR/MR和AR-HUD衍射光学材料、芯片掩模对准器定位光栅尺材料等方面拓展微纳光学技术/产品。常用的掩模光刻机是掩模对准光刻技术，因此被称为掩模对准系统。
掩模对准器是制造微电子器件的关键工具之一。他们的产品在低功耗和高亮度芯片制造领域表现突出，佳能的掩模对准器具有高精度和高可靠性。SMIC是中国领先的半导体制造公司之一，其掩模对准器技术处于行业领先地位。光刻机的技术极其复杂，是所有半导体制造设备中技术含量最高的。m也意味着我国已经在光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。
佳能:佳能是日本另一家著名的口罩对准器制造商。在上海微电子技术取得突破之前，中国制造的光刻机仅限于制造业，Ultratech是一家位于美国的掩模对准器制造商。以及优秀的技术人员和先进的工艺水平，可以制造高端芯片，是指在硅片表面涂胶。
