国内芯片工艺能做多少nm，现在芯片制作工艺精度大约是多少纳米
现在芯片制作工艺精度大约是多少纳米22纳米ggf市场上是2222NM2，国产芯片能生产多少纳米国产芯片水平只能实现90纳米。从芯片制造环节看，光刻机、蚀刻机、晶圆、光刻胶等设备和材料占比很大。其中光刻机设备，目前上海微电子是90纳米。高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口，其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此，我国要生产高度国产化的芯片，目前90纳米是一个分界点。这其中还不包含芯片设计使用的EDA设计软件和其它的电子化学气体材料。EDA软件被誉为“芯片设计上的明珠”，国产率不到2%。90纳米芯片！相...
更新时间：2023-03-11标签： 国内芯片工艺能做多少nm国内芯片工艺 全文阅读