原子芯片是一种设备。下面主要讨论原子层沉积的原理和化学,以及原子层沉积与其他相关技术的比较,因此,原子层沉积技术的优势得以体现,例如单原子层的连续沉积,沉积层的厚度极其均匀且一致性极佳,并且沉积速度慢的问题并不重要,拓晶科技的主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和亚大气压化学气相沉积(SACVD)设备,拥有自主知识产权,技术指标达到国际同类产品先进水平。有三个完整系列的产品:inchPECVD(等离子体化学气相沉积设备)、ALD(原子层薄膜沉积设备)和NANDP...
更新时间:2024-07-19标签: 沉积原子设备气相化学 全文阅读