直接决定了芯片的制造工艺。在这个过程中，掩膜版对准设备的水平直接决定了芯片的制造工艺，可以说是决定芯片“命运”的一步，芯片制造工艺的高度复杂性决定了其制造难度，M是目前最主流的芯片制造工艺，M的芯片制造工艺应该是先进的，不同的纳米制造工艺决定了手机或计算机中使用的芯片的性能和功耗。如果要实现M工艺技术的芯片。
芯片的功能取决于其制造工艺。芯片制造越精密，对掩模对准器的要求就越高。目前主流手机已经放弃了m工艺芯片。高芯片工艺意味着工艺技术的精度和复杂性极高，在制造过程中需要高科技设备和高度自动化的流程。在芯片加工过程中，任何精度差的细节都会导致芯片失效。目前，几乎所有顶级高端手机都有一个门槛，即其芯片需要使用。
理论上是可以的，但芯片在实现性能的同时还必须考虑体积和功耗。学过半导体器件物理或微电子学的同学应该知道，几纳米工艺指的是MOS晶体管的源漏之间的距离，即栅极长度；栅极长度确实是MOSFET的关键尺寸，工艺节点也不同，那么能否以相对落后的工艺增加芯片面积并实现强大的性能呢？
m芯片手机采用三星A、m工艺。m芯片具有相同的性能，面积可能会增加，处理器都采用芯片的良率取决于晶圆厂的整体水平，但加工精度完全取决于核心设备。光刻胶是半导体技术中的核心材料，其速度下降，——属于性价比不高的“智商机”！现在入门级处理器通常。我们可以发现，nm数越小，晶体管的栅极长度越小，晶体管越小，单位面积可以容纳的晶体管越多。
