在芯片生产过程中，需要进行测试和封装。经过上述过程后，芯片生产已经完成，光刻是芯片制造过程中最复杂和最关键的工艺步骤，光刻是将电路图从掩模转移到硅片上的过程，其工艺水平直接决定了芯片的工艺水平和性能水平，此外:晶圆是一大块单晶硅，以及无数个半导体管（三极管或MOS等。）都在这个硅片上被蚀刻和掺杂。
富士通的研究人员开发了一种实验性量子芯片，据说每秒钟具有很高的计算能力。他们称这种新化合物为实验量子芯片。这一步是测试芯片，去除有缺陷的产品并将其封装。芯片制造就像盖房子，以晶圆为基础，一层一层堆叠。至此，大部分项目开发工作已经完成。此时需要保留样机开发过程中获得的重要数据记录，如更新电气原理图中的元件参数、PCB元件库中的三维模型，并记录暴露的设计错误和分析错误的原因。
在芯片生产过程中，单晶硅被切片并抛光以形成晶片。在晶片上，通过一定的工艺绘制出电路中需要的晶体管、电阻、电容、电感等元件和布线，形成集成电路（IC）。没有设计图纸，拥有强大的制造能力是没有用的，因此芯片设计师非常重要。注意，以上只是ASIC（半定制）设计过程，与全定制设计相比，ASIC设计过程相对简单，一般不会区分前后端设计。
在集成电路生产过程中，集成电路大多由专业的集成电路设计公司进行规划和设计，如联发科、高通和英特尔。十亿次，现有超级计算机的运算速度被限制在每秒数百亿次。在集成电路设计中，光刻，耗时占集成电路生产。提高cpu的性能大致有三种方法:设计更复杂的电路，因此性能更高，设计新的电路，因此性能得到提高。
